河源市回轉(zhuǎn)窯除塵脫硫設(shè)備型號(hào)齊全

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80 80000.00元/臺(tái)
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寧夏熙堡環(huán)保科技有限公司

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詳細(xì)參數(shù)
品牌熙堡環(huán)保型號(hào)XBHB
加工定制類型可移動(dòng)焚燒爐
適用領(lǐng)域生活垃圾發(fā)電脫硝設(shè)備廠家適用對(duì)象各類工業(yè)廠家
工作能力極好重量200000
產(chǎn)品規(guī)格優(yōu)材質(zhì)耐火制品
適用機(jī)型用途發(fā)電
質(zhì)量優(yōu)產(chǎn)地寧夏
功率16-20W

產(chǎn)品詳情

           氨逃逸的危害

近些年,我國(guó)經(jīng)濟(jì)處于快速發(fā)展的階段,人民的物質(zhì)生活水平也有了顯著提高。然而在這經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展,物質(zhì)生活質(zhì)量不斷提高的背后,我們賴以生存的環(huán)境正在面臨著更嚴(yán)重的挑戰(zhàn)。國(guó)家出臺(tái)一系列環(huán)保政策,提高了大氣污染排放指標(biāo)。要求大氣污染物排放企業(yè)逐步完成環(huán)保改造,達(dá)到大氣污染排放要求。

氮氧化物(NOx)是造成大氣污染主要污染源之一,其主要來源于燃耗燃燒及化工生產(chǎn)產(chǎn)生。各大污染排放企業(yè)采用脫硝技術(shù)改造,減少氮氧化物(NOx)排放。目前常用的脫硝技術(shù)有SCR、SNCR以及高分子脫硝技術(shù)等。

脫硝技術(shù)原理是還原劑和氮氧化物發(fā)生還原反應(yīng),產(chǎn)生氮?dú)夂退?。脫硝劑主要采用液氨和尿素,在還原過程中不可避免產(chǎn)生過多的還原劑逃逸,不僅給設(shè)備帶來傷害,同時(shí)造成經(jīng)濟(jì)上的影響。

氨逃逸是脫硝技術(shù)改造的重要技術(shù)指標(biāo),氨逃逸危害如下:

1.對(duì)空氣預(yù)熱器的危害

脫硝出口煙氣中的氨和SO3反應(yīng)生成NH4HSO4和(NH42SO4,而NH4HSO4具有較高的粘附性,將堵塞空氣預(yù)熱器,腐蝕污染蓄熱元件表面,造成空氣預(yù)熱器的腐蝕、堵塞和積灰,使機(jī)組運(yùn)行周期減短,增大維護(hù)量,增加運(yùn)行成本。

脫硝技術(shù)原理是還原劑和氮氧化物發(fā)生還原反應(yīng),產(chǎn)生氮?dú)夂退C撓鮿┲饕捎靡喊焙湍蛩?,在還原過程中不可避免產(chǎn)生過多的還原劑逃逸,不僅給設(shè)備帶來傷害,同時(shí)造成經(jīng)濟(jì)上的影響。

氨逃逸是脫硝技術(shù)改造的重要技術(shù)指標(biāo),氨逃逸危害如下:

1.對(duì)空氣預(yù)熱器的危害

脫硝出口煙氣中的氨和SO3反應(yīng)生成NH4HSO4和(NH42SO4,而NH4HSO4具有較高的粘附性,將堵塞空氣預(yù)熱器,腐蝕污染蓄熱元件表面,造成空氣預(yù)熱器的腐蝕、堵塞和積灰,使機(jī)組運(yùn)行周期減短,增大維護(hù)量,增加運(yùn)行成本。

2.對(duì)布袋除塵器的影響

脫硝裝置出口煙氣中的剩余氨和SO3反應(yīng)生成的NH4HSO4粘附在布袋除塵器的布袋上,堵塞布袋,使布袋差壓增大,影響除塵效果,增大引風(fēng)機(jī)電耗,嚴(yán)重時(shí)損壞布袋。引風(fēng)機(jī)出力的增加帶來了廠用電率的增加,高負(fù)荷時(shí)出力的不足造成負(fù)荷上的限制,影響機(jī)組效益。同時(shí)可能造成引風(fēng)機(jī)發(fā)生的失速喘振問題,這不僅給風(fēng)機(jī)本身帶來傷害,也增加了機(jī)組運(yùn)行的不安全性,降低了經(jīng)濟(jì)效益。

3.脫硝劑耗量增大,降低脫硝裝置經(jīng)濟(jì)性。

4.堵塞催化劑,降低催化劑活性

硫酸氫銨在低溫下還具有吸濕性,當(dāng)從煙氣中吸水會(huì)對(duì)設(shè)備造成腐蝕,如果它在低溫催化劑上形成,會(huì)造成催化劑部分堵塞,增大催化劑壓降或是造成催化劑失效,降低催化劑的活性,進(jìn)而使氨逃逸進(jìn)一步增大,形成惡性循環(huán)。

5.剩余氨氣排到大氣中造成大氣的二次污染

盡管氨可以用于阻止NOx的排放,但氨本身的排放到大氣中也會(huì)造成環(huán)境污染。

因此控制氨逃逸是有必要的,國(guó)家對(duì)脫硝技術(shù)的排放氨逃逸有明確的指標(biāo)。SCR脫硝技術(shù)的氨逃逸控制在3ppm(2.5mg/Nm3)以下,SNCR 技術(shù)氨逃逸控制在10ppm (8mg/Nm3)以下。

 

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