美國(guó)進(jìn)口Simco-Ion Ion-O-Vac 除塵潔凈設(shè)備

簡(jiǎn)介

美國(guó)進(jìn)口Simco-Ion Ion-O-Vac 除塵潔凈設(shè)備基于Neutro-Vac 技術(shù)上針對(duì)卷材產(chǎn)線在材料與滾輪之間的物料表面進(jìn)行潔凈設(shè)計(jì).特別是當(dāng)接觸超過(guò)30°的情況下，這套設(shè)計(jì)對(duì)清潔物料表面粘度較大污染物的潔凈效果更加明顯，清潔能力小至20μｍ的粉塵雜質(zhì)。

Mark I型除塵系統(tǒng)包括真空槽前后的毛刷和靜電中和棒?；覊m和污垢的清除提高了生產(chǎn)效率，降低了產(chǎn)品質(zhì)量缺陷的發(fā)生率。

系統(tǒng)通常安裝在材料與滾筒表面接觸超過(guò)30度的地方。這將使高壓真空的清洗效果更好。收集器的位置必須靠近除塵頭。

Mark IV型除塵系統(tǒng)利用旋轉(zhuǎn)刷的力量擦洗材料表面，清洗至15微米。Mark IV除塵系統(tǒng)適用于堅(jiān)硬材料表面的灰塵處理。

特點(diǎn)

單面或雙面網(wǎng)清潔

接觸式和非接觸式配置

包括支架和風(fēng)管

進(jìn)行調(diào)整以將遮光罩定位在基材上

刷子可滑入和滑出，易于更換

優(yōu)點(diǎn)

帶筒式過(guò)濾器的罐式收集器

預(yù)過(guò)濾器和電動(dòng)機(jī)啟動(dòng)器

帶旋轉(zhuǎn)刷的離子型O-Vac罩，驅(qū)動(dòng)電機(jī)和速度控制，靜電消除器和支架

系統(tǒng)可以配置為清潔材料的一側(cè)或兩側(cè)

可選的氣動(dòng)回縮系統(tǒng)，用于升高和降低發(fā)動(dòng)機(jī)罩

"微米" 注釋

普通人肉眼能看到的小尺寸的千分之一毫米.如下是我們常見以微米計(jì)算的參考物體：細(xì)菌-2 微米、牙粉-10 微米、擦洗粉-25 微米、頭發(fā)-70 微米、鹽粉-100 微米。

適用：功能薄膜、光學(xué)鍍膜、藥食&化飾包裝、標(biāo)簽、印刷等行業(yè)。

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